下一代光源也已经确定了，是波长248nm的KrF光源。
第四代的时候，采用波长193nm的ArF光源。
但是，已经有一个新的概念被提了出来，那就是极紫外光刻机。
这可能很多人都不熟悉，换上一个说法：EUV光刻机。每一次光源的改进，都是能够显着提升光刻机所能实现的最小工艺节点。
只不过极紫外光刻机这个新概念被提了出来，但是却没有企业往这个上面投钱。
很简单的原因，极紫外光想要作为光源用到光刻上面，技术难度实有着些过于的高了些。
反正，这属于一个概念性的东西。
市场上面的光刻机，还依旧的能够满足需求，大家对于这极紫外光刻机并不急着要。
实际上，Asml1999年的时候才开始进行EUV光刻机的研发工作。
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