计划是通过五年时间，2004年的时候，就推出EUV光刻机产品。
但是到了2010年才是搞出第一台EUV光刻机原型机，2016年才是向下游客户正式供货。
凭借着EUV光刻机，Asml也是一举成为全球光刻机领域当之愧的最大巨头。
光源对于光刻机的重要性，实过于的重要了一些。
陈怀庆也是看过一些报道，说华国极紫外光源上面是有着突破的。
也不知道具体情况到底如何。
网络上面的新闻，这很多都只是看上一个乐就行。
除了光源之外，工作台和新的光刻技术创新，也是能够提升最小工艺节点和生产效率以及产品良品率。
此时大家对极紫外光刻机没有什么信心，可是陈怀庆却知道，这东西真的能行啊！
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