109厂是高技术半导体器件和集成电路研制生产中试厂。
赵建胜嗤笑一声：“怎么，很惊讶？”
陈怀庆：“不仅仅是惊讶，还很难以置信。本来，我以为我们的光刻机技术很落后，可却没有想到，国家已经发展到了这个程度。”
此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比，差距绝对不会太大，可能也就在五年内。
不像是到了21世纪之后，这个差距被拉大到了四代。
到了EUV光刻机，光刻机才是第五代！
也就是说，此时国内的光刻机水平处在第二代。
当然了，全球范围的光刻机水平也都还在第二代。
只不过发展第二代的时候，国内的光刻机发展就出现了问题。
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