不能够实现产品量产，也就意味着前期投入的研发费用收不回来。
申城微电子公司只能够转而去研究前道光刻机。
前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。
是的，屏幕也是由光刻机来生产的。
可现在却有人告诉陈怀庆，华国的光刻机并不差。
陈怀庆抬头看向赵建胜：“各位领导，你们确定给我看的资料，没有掺假？”
第一台光刻机落地于60年代中后期，
1980年自动对准分布投影光刻机研制成功，加工最细线宽为0.8微米。
此时在国内，光刻机研发团队还真的不少，不像是最后，就剩下申城微电子一个独苗。
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