传统的光刻机使用的激光光源是193纳米的，也就是说，最多只能加工到0.18微米按说193纳米应该是0.19微米，但是为啥工艺都是0.18微米的，华东之雄也不知道，按说这个时候的工艺还没有水分，到了后来的5纳米，7纳米之类的，水分才真叫大，英特尔在14纳米上止步那么久，实际上，如果按照真正的规则，台积电的5纳米和7纳米，并不比英特尔的10纳米高级，台积电的工艺里都是水，如果再进一步，那就得寻找新的光源。
在这个方面，各个光刻机巨头，比如尼康、IBM等等，走的都是寻找新光源的方式，用波长更短的激光来进行光刻，这样就能继续提升工艺制程了。
但是，这样做耗费巨资，时间也很长，现在，各个公司还没有掌握157纳米的光刻法，打算进步到0.15微米的时候，东方就把湿式光刻法给捣鼓出来了，直接越过了157纳米，通过光的折射，进步到了132纳米，实现了0.13微米的工艺制程。
这就属于技术上的弯道超车了。
如果从132纳米。继续降低到90纳米，那当然还需要选择新的光源，在这条道路上，东方可能会走很久，但是，他们在0.13微米的工艺制程上，已经甩开了对手一大截，靠着这个工艺上获得的利润，足以支持他们研发更先进的工艺。
先掌握这种技术的，那就吃肉，后掌握这种技术的，那只剩下吃屎了。
东方已经量产了，他们西方才开始向这个方向进发，这已经落后了，接着，等到他们耗费巨资，快研究出来的时候，东方肯定会把这种光刻机大量售卖，让他们耗费巨资研制的光刻机没有市场，而各个芯片巨头，肯定愿意采用东方的光刻机，因为已经运行过数年，性能已经稳定了，尼康之类的，第一次做浸入式光刻机，天知道会不会漏水之类的。
这样，等到西方进入到0.13微米工艺的时候，东方估摸着已经搞起来了90纳米的工艺了，他们处处落后，再也无法追赶。
想到这里，桑德斯就是一阵的感慨，芯片领域里的厮杀就是这样，以后，不知道有多少芯片公司能活下来啊。
“那我们有什么解决办法？能不能把那些人骗到我们西方来，然后把他们关起来判刑？”维恩说道。
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