在那个时代，在半导T领域内可谓是人才济济，他们才开始研究光刻技术，但当时他们却研制出了锗合金三极管和磁膜储存器。
到了六十年代初期，美国提出了氧化物半导T效应晶T，并且研制出了一千个元件的密集电路板，这是世界第一个二十英寸的集成电路。
而同一时期的中国沿用古老传统的照相术显微镜进行缩小曝光，采用的是人工光刻工艺，就是坐标值加喷黑铜版纸加手术刀的方式，JiNg度也能达到零点几毫米，对於那个时代的集成电路来说也是足够了。
而到了六十年代中期，中国就制造出了第一批接触式光刻机，这项技术已经处在世界一流行列了。
到了七十年，因为大规模集成电路产业的蓬B0发展，美国人的光刻技术终於迎来的大爆发，进入到八微米工艺时代，开发出了投影光刻机等关键工艺设备技术，并在七十年代中期年建立了世界第一条十二英寸的集成电路生产线，也就是众人面前的这套四微米制程工艺。
就在西方国家的芯片产业渐渐显露头角之时，在这一时期的中国的毛大佐却玩了一个大的，直接发动了文化大革命，打倒了一大批归国的顶尖半导T科学家，虽然有些科学家始终没有放弃研究工作，可是那些人才早就不是当初的那批人了，因为老一批有经验有技术积累的专家大部分都被发配到下面去“种地放牛”了。
也就是从这个时期开始，中华人民共和国的半导T产业开始停滞不前，邓矮子改革开放初期，还试图想要将半导T产业重新恢复过来，但是由於此时相关技术已经落後外国，要想提高最快的方法就是引入国外的技术。
但很快就发现，因为毛大佐治国真的太傻b了，八十年代的国家外汇储备都没有现在的天津多，引进了这项技术就无法引进其他技术，此时他们又将炼钢炼铁做为工业的首要目标，仅仅保钢扩建这一个项目就付给日本五十亿美金，几乎把多年来的外汇储备都掏空了，而做为高投入的半导T行业就被放弃了。
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